Difference between revisions of "Translations:Project-elements/8/ar"

From Dental Wiki
Jump to navigation Jump to search
(Importing a new version from external source)
 
(No difference)

Latest revision as of 08:53, 27 July 2017

Information about message (contribute)

This message has no documentation. If you know where or how this message is used, you can help other translators by adding documentation to this message.

Message definition (Project-elements)
*{{List button|Op acquisition.png}} Articulator scan or scan of the occlusion: this scan can be performed either by scanning any kind of articulator on the articulator support plate or by scanning two models one on top of the other on the normal model holder.
*{{List button|Op acquisition-jaw.png}} Model Scan, upper or lower: if both models need to be scanned, the first one will always be the lower. For this scan, the models need to be inserted in the scanner '''without silicon gingivas, markers, preops or waxups'''.
*{{List button|Op acquisition-waxup.png}} Waxup reference acquisition: The waxup reference needs to be scanned on top of the model to get the position reference.
Translation**{{List button|Op acquisition.png}} مسح المفصلة أو مسح الإطباق: يمكن إجراء هذا المسح إما عن طريق مسح أي نوع من أنواع المفصلات على لوحة دعم المفصلة، أو عن طريق مسح نموذجين أحدهما فوق الآخر على حامل النموذج العادي.
*{{List button|Op acquisition-jaw.png}} مسح النموذجين العلوي أو السفلي: إذا كانت هناك حاجة إلى مسح كلا النموذجين ضوئيًا، فدائمًا ما يكون أولهما هو النموذج السفلي. وبالنسبة إلى هذا المسح الضوئي، يجب إدراج النموذجين في الماسح الضوئي ''بدون اللثة السيليكون، أو العلامات، أو عمليات تحضير، أو شمع''.
*{{List button|Op acquisition-waxup.png}} تحصيل مرجع الشمع: يجب مسح مرجع الشمع فوق النموذج للحصول على مرجع الموضع.
    • Op acquisition.png مسح المفصلة أو مسح الإطباق: يمكن إجراء هذا المسح إما عن طريق مسح أي نوع من أنواع المفصلات على لوحة دعم المفصلة، أو عن طريق مسح نموذجين أحدهما فوق الآخر على حامل النموذج العادي.
  • Op acquisition-jaw.png مسح النموذجين العلوي أو السفلي: إذا كانت هناك حاجة إلى مسح كلا النموذجين ضوئيًا، فدائمًا ما يكون أولهما هو النموذج السفلي. وبالنسبة إلى هذا المسح الضوئي، يجب إدراج النموذجين في الماسح الضوئي بدون اللثة السيليكون، أو العلامات، أو عمليات تحضير، أو شمع.
  • Op acquisition-waxup.png تحصيل مرجع الشمع: يجب مسح مرجع الشمع فوق النموذج للحصول على مرجع الموضع.